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      X 射線熒光固體制樣方法

      發(fā)布時(shí)間:2017.12.27 閱讀量:1733

      一、概論
      X 射線熒光光譜法是一個(gè)相對(duì)分析方法,任何制樣過程和步驟必須有非常好的重復(fù)操作可能性;用于制作校準(zhǔn)曲線的標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品必須經(jīng)過同樣的制樣處理過程。

      X 射線熒光實(shí)際上又是一個(gè)表面分析方法,激發(fā)只發(fā)生在試樣的淺表面,必須注意分析面相對(duì)于整個(gè)樣品是否有代表性。此外,樣品的平均粒度和粒度分布是否有變化,樣品中是否存在不均勻的多孔狀態(tài)等。樣品制備過程由于經(jīng)過多步驟操作,還必須防止樣品的損失和沾污。

      1.由樣品制備和樣品自身引起的誤差有
      (1) 樣品的均勻性。
      (2) 樣品的表面效應(yīng)。
      (3) 粉末樣品的粒度和處理方法。
      (4) 樣品中存在的譜線干擾。
      (5) 樣品本身的共存元素影響即基體效應(yīng)。
      (6) 樣品的性質(zhì)。
      (7) 標(biāo)準(zhǔn)樣品的化學(xué)值的準(zhǔn)確性。

      2. 引起樣品誤差的原因:
      (1)樣品物理狀態(tài)不同 樣品的顆粒度、密度、光潔度不一樣;樣品的沾污、吸潮,液體樣品的受熱膨脹,揮發(fā)、起泡、結(jié)晶及沉淀等。
      (2)樣品的組分分布不均勻 樣品組分的偏析、礦物效應(yīng)等。
      (3)樣品的組成不一致 引起吸收、增強(qiáng)效應(yīng)的差異造成的誤差
      (4)被測(cè)元素化學(xué)結(jié)合態(tài)的改變 樣品氧化,引起元素百分組成的改變;輕元素化學(xué)價(jià)態(tài)不同時(shí),譜峰發(fā)生位移或峰形發(fā)生變化引起的誤差。
      (5)制樣操作 在制樣過程中的稱量造成的誤差,稀釋比不一致,樣品熔融不完全,樣品粉碎混合不均勻,用于合成校準(zhǔn)或基準(zhǔn)試劑的純度不夠等。

      3. 樣品種類樣品狀態(tài)一般有固體塊狀樣品、粉末樣品和液體樣品等。
      (1)固體塊狀樣品 包括黑色金屬、有色金屬、電鍍板、硅片、塑料制品及橡膠制品等,其中金屬材料占了很大的比例。
      (2)粉末樣品 包括各種礦產(chǎn)品,水泥及其原材料,金屬冶煉的原材料和副產(chǎn)品如鐵礦石、煤、爐渣等;還有巖石土壤等。
      (3)液體樣品 油類產(chǎn)品、水質(zhì)樣品以及通過化學(xué)方法將固體轉(zhuǎn)換成的溶液等。

      4. 樣品制備的一般方法
      不同樣品有不同的制樣方法。金屬樣品如果大小形狀合適,或者經(jīng)過簡(jiǎn)單的切割達(dá)到X 熒光的要求,只需表面拋光,液體樣品可以直接分析,大氣塵埃通常收集在濾膜上直接進(jìn)行分析。而粉末樣品的制樣方法就比較復(fù)雜。

      這里只對(duì)常見的固體和粉末樣品的制樣方法進(jìn)行討論,液體樣品就不再討論。

      二、固體樣品

      1. 固體樣品的主要缺點(diǎn)
      一般情況下不能采用各種添加法:如標(biāo)準(zhǔn)添加(或稀釋)法、低(或高)吸收稀釋法、內(nèi)標(biāo)法等。若所有樣品中已經(jīng)含有適當(dāng)?shù)摹⒁欢舛鹊膬?nèi)標(biāo)元素,則上述的最后兩種方法還是可用的。另外,也不能進(jìn)行化學(xué)濃縮和分離。表面結(jié)構(gòu)和成分有時(shí)也難取得一致。可能弄不到現(xiàn)成的標(biāo)樣,而人工合成又很困難。

      2.制樣方法
      固體樣品可用未加工的或經(jīng)加工的大塊材料或原材料(如生鐵,鋼錠等)制取。另外,也可把熔爐的熔融物直接澆鑄到小模子里。為防止緩慢冷卻時(shí)發(fā)生的成分偏析,最好用激冷。經(jīng)拋光的原材料,或經(jīng)砂輪磨打的表面,一般是令人滿意的,但對(duì)后者仍需進(jìn)一步拋光,以減少表面粗糙度,并除去加工損傷的和沒有代表性的表面層。

      拋光的方法有許多種,包括:
      (1)先進(jìn)行帶式磨削,然后用拋光器拋光,其砂紙粒度依次由粗變細(xì),(2)用車床、銑床或刨床進(jìn)行加工。

      對(duì)于薄板和箔,必須仔細(xì)操作,以保證表面不出現(xiàn)翹曲、皺紋和折痕。特別要注意不能照射時(shí)間太長(zhǎng),以免受熱變形。薄板和箔必須襯上一塊剛性支撐物,或把它們粘在一起。

      制備固體樣品時(shí)要注意:
      (1) 樣品的分析面不能有氣孔,析出物和多孔質(zhì)現(xiàn)象。
      (2) 防止偏析。造成偏析的因素:合金的組成和密度;鑄模的材料、形狀和厚度;合金熔化溫度、澆鑄溫度和被澆鑄樣品的冷卻速度等。
      (3) 樣品的冷卻速度。當(dāng)樣品化學(xué)組成相同由于熱過程不同測(cè)得的X 射線強(qiáng)度不同,含C 量高的鋼鐵樣品這種現(xiàn)象尤為突出。冷卻速度不一致時(shí),對(duì)輕元素C、Mg、Si、P、S 等存在很大影響;而V、Cr、W 等往往由于形成碳化物而影響分析。

      因此,要求制作校準(zhǔn)曲線的樣品和分析樣品的熱處理過程要保持一致。此外,還和元素在基體金屬中的溶解度有關(guān),元素的低固熔性會(huì)影響金屬的均勻性,快速冷卻能形成細(xì)晶粒的金相結(jié)構(gòu),而大顆粒晶粒的邊界容易發(fā)生偏析和不均勻性。

      對(duì)于不適合直接分析的金屬樣品,如切削樣、線材和金屬粉末等還可以采用感應(yīng)重熔離心澆鑄法來制備樣品。

      原理是將適當(dāng)大小的樣品放入坩堝,在氬氣氣氛中通過高頻感應(yīng)加熱重新熔融,在離心力的作用下注入特制的模子里,然后迅速冷卻制得金屬圓塊樣品。

      離心澆鑄法可以消除樣品的基體效應(yīng),并且可以采用添加法:稀釋法(常見稀釋劑的有純鐵),內(nèi)標(biāo)法等。還可以人工合成標(biāo)樣。但設(shè)備昂貴,制樣成本高。


      高頻感應(yīng)離心澆鑄熔融爐

      注意事項(xiàng):
      (1) 被熔金屬要保持一定的粒度。如果金屬顆粒太小,每一細(xì)小顆粒上的電勢(shì)很小,不能產(chǎn)生足夠大的渦流使樣品升溫熔解。
      (2) 防止坩堝對(duì)樣品的沾污。縮短熔融時(shí)間也可以減少沾污。
      (3) 組分的燒損。例如Mn,Y 等易燒損元素,含量越高,熔融時(shí)間越長(zhǎng),燒損越嚴(yán)重。
      在保護(hù)氣氛的壓力保護(hù)下,可減少或克服燒損現(xiàn)象。而Mn 的揮發(fā)也可加入一定量的金屬鋁作脫氧劑。
      (4) 在保證分析精度的情況下,可加純鐵作為稀釋劑,會(huì)使制樣容易進(jìn)行,且減小分析誤差。

      3.樣品表面處理:
      固體表面有時(shí)不能代表整個(gè)樣品塊,此時(shí),必須弄清楚要分析的是表面還是整個(gè)材料,還是兩者都要分析。此外,各個(gè)樣品的表面結(jié)構(gòu)和表面成分很難保證都相同。在進(jìn)行表面處理時(shí),可能帶走夾雜物,致使該成分的分析結(jié)果偏低。表面可能被沾污或帶上磨料,必須除去所有微量磨料、潤(rùn)滑劑和切割用的冷卻劑。

      使用氧化鋁、碳化硅和氧化鈰磨料時(shí),樣品表面可能會(huì)沾上這些元素。如果磨料是撒在包鉛或包錫的拋光輪上,樣品表面可能會(huì)沾上鉛、錫這些元素。必須從樣品表面除去氧化物和其他腐蝕物,而且需要有一定的光潔度。樣品的光潔度直接影響測(cè)得的X 射線強(qiáng)度,一般光潔度越高強(qiáng)度越大。輕元素對(duì)此尤其敏感。

      像AlKα、MgKα等光潔度最好在20~50μm,而短波重元素100μm 也能滿足分析要求。分析線的強(qiáng)度和研磨面的方向有關(guān),入射線和出射線構(gòu)成的平面和磨面研磨方向平行時(shí)吸收最小,垂直時(shí)吸收最大。采用樣品旋轉(zhuǎn)就能使這影響平均化。實(shí)質(zhì)上,表面的光潔度不一樣時(shí)入射的一
      次X 射線和熒光X 射線的光程隨表面磨紋的粗細(xì)而改變。





      研磨前后表面光潔度的變化




      TAGS:廣州法柯鴻華
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